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2.9.1 L'olografia in guida

Nella realizzazione dei dispositivi ottici, i reticoli di interferenza sono spesso registrati in guide planari. Una tipica configurazione è mostrata in figura 2.20 [17]: il primo prisma accoppia i due fasci oggetto e di riferimento durante la registrazione, e il solo fascio di riferimento nella fase di lettura; il secondo prisma disaccoppia il fascio diffratto e trasmesso dall'ologramma durante la lettura. Le intensità dei due fasci sono misurate da rivelatori posti in fronte al secodo prisma.
Figura 2.20: Olografia in guida.
\includegraphics[ width=7.8cm , angle=-90]{oloing.eps}

In generale si possono registrare reticoli di interferenza di onde di differenti modi e polarizzazioni; usualmente i due fasci sono onde piane monocromatiche con la stessa lunghezza d'onda, polarizzazione, intensità, e incidono sul primo prisma con lo stesso angolo gm (si veda par. 2.4), così da avere lo stesso modo m-esimo di propagazione nella guida. Per campioni di niobato di litio il sistema di riferimento è tale per cui z coincide con ĉ; nella figura l'asse x è scelto ortogonale alla guida planare (cristallo x-cut) e y denota la direzione di propagazione dei modi TE o TM (a seconda della polarizzazione). I vettori d'onda dei due fasci usati per la registrazione olografica formano un angolo ±q con l'asse y molto piccolo (tipicamente 0.05 rad.), in modo che $ \vec{K}_{g,m }=\vec{k}_{o,m}-\vec{k}_{r,m}$ sia parallelo a ĉ. Il campo elettrico associato al modo TEm è2.3:

$\displaystyle E^{m}_{\pm \theta}(x,y,z,t)= \xi_{m}(x) e^{-i \omega t} e^{i \beta_{m} y \cos \theta} e^{\pm i \beta_{m} z \sin \theta}$ (2.48)

con bm k0n1 (2.32). La sovrapposizione dei due modi genera un pattern sinusoidale di intensità:

$\displaystyle \vert E_{+ \theta}^{m}(x,y,z,t)+E_{-\theta}^{m}(x,y,z,t)\vert^{2}=2\vert\xi_{m}(x)\vert^{2}(1+\cos K_{g,m} z )$ (2.49)

con $ K_{g,m}= 2 \beta_{m}\sin\theta$ modulo del vettore d'onda del reticolo (usualmente vengono registrate 105 linee/cm).
Per effetto fotorefrattivo il pattern sinusoidale induce una variazione dell'indice di rifrazione:

$\displaystyle \Delta n_{m} (z)=\Delta n_{sat} \cos K_{g,m} z$ (2.50)

con

$\displaystyle \Delta n_{sat,o}= \frac{1}{2}n_{o}^{3}r_{31} max[E_{sat}]$

$\displaystyle \Delta n_{sat,e}= \frac{1}{2}n_{e}^{3}r_{33} max[E_{sat}]$

dove max[Esat] è il valore massimo del campo elettrico generato dalla ridistribuzione delle cariche per t → ∞ ; si dimostra [17] che:

$\displaystyle E_{sat} \simeq \frac{k_{Glass}}{\beta_{ph}} \cos K_{g,m} z $
e perciò max[Esat] si riduce alla (1.22).

L'efficienza di diffrazione è definita come il rapporto tra l'intensità dell'onda rifratta e la somma delle intensità dell'onda rifratta e trasmessa dall'ologramma, e vale [27]:

$\displaystyle \eta_{m}= e^{-\alpha d}\sin^{2}\left(\frac{\pi d}{\lambda \cos (2 \theta)} <\Delta n_{m}>\right)$ (2.51)

con l la lunghezza d'onda dei due fasci nel vuoto, d la lunghezza d'interazione (generalmente qualche mm), e <Dnm> il valor medio della variazione dell'indice di rifrazione, che in genere non differisce molto per modi diversi (dell'ordine di 10+5). Se si trascura il fattore di perdita esponenziale, hm è funzione crescente2.4 della lunghezza di interazione (dello spessore della lastra), in quanto più raggi possono soddisfare la condizione di interferenza costruttiva ed essere rifratti (si veda la figura 2.14).
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Guide di luce in niobato di litio drogato con ferro per applicazioni olografiche
Barbara Imperio
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