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Dipendenza
delle caratteristiche elettriche dalla temperatura Dipendenza della concentrazione dei portatori dalla temperatura
Supponiamo di non avere alcun tipo di difetto o impurità, di avere cioè un semiconduttore intrinseco; in questo caso la densità totale d’elettroni in banda di conduzione si ottiene moltiplicando la finzione densità di stati, g(E), per la probabilità d’occupazione data dalla distribuzione di Fermi. supponendo che la concentrazione d’elettroni non sia troppo elevata, rispetto agli stati disponibili, si può trascurare il principio d’esclusione di Pauli sostituendo la distribuzione di Fermi con quella più semplice di Boltzmann; si può, inoltre, approssimare g(E) con la densità di stati disponibili vicino al minimo della banda di conduzione, da cui risulta:
e analogamente per le lacune:
Poiché un semiconduttore intrinseco è, all’equilibrio:
Si ottiene:
Dove n è la concentrazione dei portatori intrinseci ed Eg è l’ampiezza della banda di energia proibita. Tenendo conto del fatto che 2kT a 300K è molto minore del gap di energia (2kT = 52mev) per qualsiasi tipo di semiconduttore, i semiconduttori intrinseci, sia a temperatura ambiente che a temperature criogeniche, si comportano come degli isolanti. Ad ogni modo, come si vede dalla 4) e dalla 5), in un semiconduttore intrinseco la concentrazione dei portatori cresce esponenzialmente con la temperatura. Prendiamo ora in considerazione i semiconduttori estrinseci.
I droganti introducono
degli stati elettronici localizzati vicino alla banda di conduzione per i
donori e a quella di valenza per gli accettori. Consideriamo il caso in cui
siano presenti un livello donore
Per i donori e gli
accettori, le cui concentrazioni sono rispettivamente
Ove
n +
La soluzione di questo
sistema ad una data temperatura non è semplice e va ottenuta numericamente;
tuttavia è possibile fare delle approssimazioni in determinati range di
temperatura che ci consentono di ottenere delle soluzioni più semplici.
Consideriamo un semiconduttore di tipo n (
n +
Cerchiamo ora la soluzione per differenti range di temperatura: i) Soluzione a 0°K
n = p
=
Le lacune del livello
accettore sono compensate dagli elettroni provvisti dai donori e solo
ii) Soluzione a bassa temperatura:
Quando la temperatura
cresce, il livello di Fermi rimane vicino al livello donore e si possono
ancora trascurare p e
Eliminando
Questa espressione può essere ulteriormente semplificata quando: a) la temperatura è sufficientemente bassa cosi che:
b) la temperatura è tale
che
iii) Soluzione a temperatura intermedia (regione estrinseca):
Quando kT diventa
dell’ordine di
e la 16) diventa:
Si ottiene:
In particolare, se il
semiconduttore è di tipo n e
iv) Soluzione ad alta temperatura (regione intrinseca)
Al crescere della
temperatura tutte le impurità vengono ionizzate ma, nel frattempo, aumenta
la concentrazione intrinseca ed il semiconduttore entra nella regione
omonima, in cui
Da cui:
Le quantità
Figura 1.15. Arrhenius plot della concentrazione dei portatori in un semiconduttore parzialmente compensato. Le pendenze delle linee indicate danno le energie di attivazione associate.
Di solito la concentrazione
Per questa ragione si cerca di estendere l’intervallo di temperatura corrispondente e di avere una situazione simile a quella mostrata in fig. 1.16 relativa a un campione di semiconduttore estrinseco con un solo livello donore shallow.
Figura 1.16. Concentrazione degli elettroni in funzione della temperatura relativa
a un campione di Si con una concentrazione
di donatori di
Riassumendo il comportamento della concentrazione dei portatori al crescere della temperatura possiamo dire che per temperature basse si assiste al fenomeno del congelamento della cariche, “freezeout”, in cui l’energia termica non è sufficiente a ionizzare tutti i donori presenti, e la densità dei portatori di carica è minore della concentrazione dei droganti. Pertanto, a bassa temperatura le impurità sono neutre (o, come si dice, congelate) e le concentrazioni di elettroni e lacune tendono a crescere secondo la (1.24) e poi secondo la (1.25), mentre il livello di Fermi tende a portarsi in prossimità della banda di conduzione o di valenza a seconda che si tratti di semiconduttore di tipo n o p, rispettivamente. A temperature superiori alla zona di congelamento le impurità sono quasi interamente ionizzate e la concentrazione dei portatori maggioritari è circa uguale alla concentrazione delle impurità ionizzate 31). Al crescere della temperatura tutte le impurità vengono ionizzate, e per la concentrazione dei portatori vale la (1.33). La larghezza della regione intrinseca dipende dalla concentrazione dei droganti mentre la temperatura che porta al freezeout è fortemente dipendente dall’energia di ionizzazione delle sostanze droganti.
Per temperature elevate
il livello di Fermi coincide con il livello
intrinseco ed il semiconduttore estrinseco degenera in uno intrinseco,
mentre, a basse temperature e per i semiconduttori fortemente drogati, può
entrare nella banda di conduzione, comportando in tal caso caratteristiche
elettroniche di tipo metallico (semiconduttori degeneri).
con T espresso in Kelvin. La fig. 1.17 mostra la dipendenza dalla temperatura della concentrazione dei portatori intrinseci per l’InP, mentre in figura 1.18 si riporta la variazione del livello di Fermi con la temperatura per differenti concentrazioni di accettori e donori.
Figura 1.18. dipendenza dalla temperatura della concentrazione dei portatori Intrinseci per l’InP.
Figura 1.19: andamento del livello di Fermi rispetto alla temperatura per differenti concentrazioni di accettori e donori superficiali nell’InP.
e energie di ionizzazione per i donori shallow per il fosfuro d’indio (S, Si, Sn, Ge) sono tutte pari a circa 0.0057 eV mentre di seguito riportiamo le energie di ionizzazione per gli accettori, espresse in eV:
Dipendenza della mobilità dalla temperatura
Vediamo ora i meccanismi che regolano la variazione della mobilità con la temperatura in un semiconduttore estrinseco. Come già detto, applicando al semiconduttore un campo elettrico di bassa intensità, elettroni e lacune subiscono un moto di deriva con velocità media proporzionale al campo elettrico attraverso il coefficiente di mobilità [85Sze]. Essa dipende dalle caratteristiche fisiche del semiconduttore tramite il tempo di rilassamento della quantità di moto, legato al tempo medio che intercorre fra urti successivi di un portatore di carica e quindi al libero cammino medio di quest’ultimo. Si è visto, nelle pagine precedenti, che appunto, la mobilità dei portatori è proporzionale a tale tempo di rilassamento. Consideriamo ad esempio gli elettroni; in precedenza avevamo ottenuto la seguente:
In
presenza di
più fenomeni d’urto indipendenti e detti
In
presenza di
più fenomeni d’urto indipendenti e detti
tenendo presente la
(1.28), si ottiene la cosiddetta regola di Mathiassen: la mobilità
In tabella 1.2
riportiamo
un sommario dettagliato della dipendenza dalla temperatura e dalla massa di
Tabella 1.2:
tabella
riassuntiva della dipendenza dalla temperatura e dalla massa di
e
Per quel che riguarda gli
urti con fononi ottici (terzo tipo di meccanismo di trasferimento di energia
riportato nella tabella) esso può avvenire solo quando, sotto l’effetto di
un campo elevato, i portatori di carica acquistano una energia sufficiente
ad eccitare le vibrazioni reticolari ad alta energia, dette fononi ottici.
Il nome può essere associato aL fatto che un
quanto di energia è, per il fonone ottico, paragonabile ad un quanto di
energia elettromagnetica nell’infrarosso, ed è di circa 63meV nel silicio; a
temperatura ambiente, quindi, un elettrone o una lacuna non sono in grado
mediamente di emettere fononi ottici, ossia di cedere energia e quantità di
moto al superiori ad un campo di soglia dell’ordine di qualche
kV/cm., L’emissione di fononi ottici è in grado
di cedere al reticolo tutta L’energia in più fornita dal campo elettrico ai
portatori stessi. Di conseguenza, la velocità di deriva dei portatori non
cresce in modo proporzionale al campo elettrico, ma sempre di meno, fino a
saturare ad un valore Tratteremo, quindi, solo i due tipi principali di meccanismo di scattering dei portatori che intervengono nei nostri campioni e precisamente:
1. urti con impurità ionizzate; 2. urti con fononi acustici
1 fononi acustici sono vibrazioni reticolari a frequenza relativamente bassa e a bassa quantità di moto ed energia, e sono così detti perché a questa categoria appartengono i fononi che trasportano il suono attraverso un solido. I due meccanismi presentano diverso comportamento in funzione della temperatura del reticolo: i primi hanno tempo di rilassamento crescente con T, mentre i secondi hanno tempo di rilassamento decrescente con T. A bassa temperatura prevalgono i processi di scattering da impurità ionizzate, mentre a temperatura maggiore (tipicamente sopra i 100K) domina lo scattering da fononi acustici: il punto di massimo della mobilità, quando è rilevabile, dipende ovviamente dal drogaggio (in modo inversamente proporzionale) dato che la maggior parte di impurità ionizzate consiste in atomi della specie drogante (fig. 1.20)
Figura 1.20:Mobilità
degli elettroni nel silicio in funzione della temperatura per diverse della mobilità degli elettroni.
In particolare per gli urti da impurità ionizzate, l’espressione del tempo medio che intercorre tra due collisioni successive di portatori dotati di velocità è la seguente:
In cui compaiono la costante
dielettrica statica del materiale
si
ottiene per la mobilità una dipendenza dalla temperatura proporzionale
appunto a La probabilità che la funzione d’onda di un elettrone venga riflessa da tale gradino è
in cui
Esprimendo
dove c1, è la costante elastica per deformazioni longitudinali e in cui si nota la dipendenza dalla temperatura mediante T3. In figura 1.21 riportiamo l’andamento della mobilità delle lacune nel fosfuro d’indio in funzione della temperatura per diversi livelli di drogaggio di zinco. Per InP debolmente drogato p a temperature vicine a 300K è stata ricavata la seguente legge di variazione della mobilità con la temperatura:
Si ottiene, inoltre, una legge di dipendenza della mobilità da scattering con fononi acustici al variare della concentrazione di specie drogante:
Figura 1.16:
andamento della mobilità delle lacune nel fosfuro d’indio in funzione della
temperatura per diversi livelli di drogaggio di
zinco. Concentrazione delle lacune a 300K:
curva 1:
Curva 2
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